紅外加熱爐采用高能流密度紅外燈和鍍金反射鏡設計，可快速將樣品加熱至1500℃高溫并精確控制溫度，適用于各種環境如真空、惰性、氧化和還原氣氛中進行加熱和冷卻。

紅外加熱爐采用高能流密度紅外燈和鍍金反射鏡設計，可快速將樣品加熱至1500℃高溫并精確控制溫度，適用于各種環境如真空、惰性、氧化和還原氣氛中進行加熱和冷卻。

其高精度控溫和潔凈加熱特點，使其適合用于電子材料、陶瓷材料、金屬材料等多種材料的加熱與分析實驗；該設備可根據需求定制不同功率、恒溫區尺寸和溫度范圍，并配備有高精度溫度控制器以實現程序化溫度控制。

• 測試原理

特制的高能流密度紅外燈為熱源，產生的紅外線經過鍍金多種拋物鏡面反射然后聚焦到樣品臺面，使其對樣品進行加熱從而使溫度快速升高。

• 技術優點

√ 快速升溫：升溫速率超過1000℃/min

√ 高精度控溫：使用專用溫度控制器，可以高精度控制最終溫度

√ 可視化：耐溫視窗便于觀察樣品變化，可集成光學系統進行圖像采集

√ 滿足各種工作條件：可以在各種環境如真空、惰性、氧化、還原氣氛中進行加熱和冷卻

產品詳細參數一覽表：

使用案例：上海光源科學中心

成功安裝

進行對準工作，要讓射線穿過爐體預留窗口

使用上位軟件遠程控制升溫，升溫速率超1000℃/min

X射線啟動，沖擊爐體內樣品并觀察衍射圖像

金屬樣品固態時的衍射圖像（部分）

金屬樣品開始融化時的衍射圖像(固液混合態)

金屬樣品融化的衍射圖像(液態)